退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。

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優(yōu)點：
1.使用方便，適應(yīng)生產(chǎn)環(huán)境; 　
2.爐內(nèi)溫度快，各段溫度均勻。 　　
3、爐體維修期保證5年以上，且爐門、燃燒器等易碎部件維修方便。 　　
缺點 ：　　
1.設(shè)備耗油量大，效率低，造成嚴(yán)重的環(huán)境污染 　　
2.推鋼軌產(chǎn)生的缺陷較多，維修困難，影響了生產(chǎn) 　　
3.自動化控制程度低，報廢率高，一般在12%。 　　改進(jìn)措施 　　改造后的光亮退火爐爐溫劃分為為三區(qū)，其間由鋼材推進(jìn)器將工件推入爐內(nèi)第一區(qū)--加熱區(qū)，兩面墻下交錯設(shè)置4個燒嘴，軌道由耐火磚拱形支撐，使工件兩側(cè)均可加熱，再分為兩區(qū)、三區(qū)--恒溫區(qū)，兩面墻等高布置4個燒嘴。